廣東華升納米科技股份有限公司2025-12-30
PVD工藝本質(zhì)上通過物理過程沉積膜層,不涉及化學(xué)反應(yīng),減少了熱損傷,但涂層本身在高溫條件下的穩(wěn)定性仍然是關(guān)鍵指標。高性能磁控濺射設(shè)備能通過調(diào)節(jié)離子能量、沉積溫度與膜層成分設(shè)計,提高涂層在高溫狀態(tài)下的抗氧化能力和熱穩(wěn)定性。華升納米所使用的磁控濺射設(shè)備平臺可對TiAlN、CrN等高溫穩(wěn)定膜層進行工藝調(diào)優(yōu),使其在高溫切削、干式加工等場景下表現(xiàn)出更低的熱軟化與氧化擴散,從而延長刀具與模具部件的服役周期。
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