廣東華升納米科技股份有限公司2025-10-30
華升納米真空鍍膜機的鍍膜能耗處于行業(yè)較低水平,通過技術(shù)創(chuàng)新實現(xiàn)節(jié)能降耗。華升納米真空鍍膜機采用高效離子源與電源控制系統(tǒng),能精細調(diào)控能量輸出,避免無效能耗,如陽極層離子源的離化效率高,可在較低功率下實現(xiàn)高質(zhì)量涂層沉積。從實際應(yīng)用數(shù)據(jù)看,華升納米真空鍍膜機每天快可完成3-4爐次生產(chǎn),單位產(chǎn)能能耗遠低于同類產(chǎn)品,尤其適合批量生產(chǎn)場景下的成本控制。此外,有些設(shè)備的低沉積溫度(比較低100°C)減少了加熱系統(tǒng)能耗,與某些高溫鍍膜設(shè)備相比,單爐次能耗可節(jié)省30%以上,長期使用能為客戶明顯降低生產(chǎn)成本。
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