活塞銷鍍金屬表面處理-DLC涂層的膜層均勻性能達(dá)多少？

廣東華升納米科技股份有限公司2025-12-02

華升納米自主研發(fā)的金屬表面處理-DLC系列真空鍍膜設(shè)備，結(jié)合了離子源、磁控濺射、PECVD技術(shù)優(yōu)勢。其設(shè)備可通過精細(xì)控制真空度、離子能量等參數(shù)，以及優(yōu)化沉積源的位置、角度和沉積速率等，來保證DLC涂層的均勻性。例如華升自主設(shè)計(jì)的金屬表面處理-DLC1500涂層設(shè)備，通過“多靶位對稱布局+行星式工件公轉(zhuǎn)自轉(zhuǎn)”雙重設(shè)計(jì)，確保活塞銷表面每一處都能均勻接收涂層粒子。設(shè)備的真空腔體內(nèi)部設(shè)置4組磁控靶，呈對稱分布，配合工件架1-5轉(zhuǎn)/分鐘的公轉(zhuǎn)速度與3-15轉(zhuǎn)/分鐘的自轉(zhuǎn)速度，讓活塞銷在涂層沉積過程中無死角接觸沉積源。

本回答由 廣東華升納米科技股份有限公司 提供