廣東華升納米科技股份有限公司2025-11-22
金屬表面處理真空鍍膜射頻功率過高時,等離子體密度劇增,離子轟擊能量超過薄膜結(jié)合閾值,首先導(dǎo)致基底濺射損傷,表面出現(xiàn)微米級蝕坑,粗糙度Ra由0.05 μm升至0.3 μm,光學(xué)膜散射損耗增加;其次沉積粒子被二次濺射,有效速率下降30%,靶材利用率降低;高能離子注入還使膜層壓應(yīng)力驟升至1.5 GPa,厚膜立即卷曲開裂;同時局部溫升可超300 ℃,引發(fā)不銹鋼基底回火軟化,尺寸超差。對策:設(shè)置功率密度≤2 W cm?2,采用脈沖射頻占空30%,并實(shí)時監(jiān)測反射功率<5 W,經(jīng)此金屬表面處理優(yōu)化,膜層應(yīng)力可控在0.3 GPa,表面保持鏡面,保障批量金屬表面處理真空鍍膜良品率,延長金屬表面處理設(shè)備壽命。
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