廣東華升納米科技股份有限公司2025-11-22

金屬表面處理真空鍍膜射頻功率過高時，等離子體密度劇增，離子轟擊能量超過薄膜結(jié)合閾值，首先導(dǎo)致基底濺射損傷，表面出現(xiàn)微米級蝕坑，粗糙度Ra由0.05 μm升至0.3 μm，光學(xué)膜散射損耗增加；其次沉積粒子被二次濺射，有效速率下降30%，靶材利用率降低；高能離子注入還使膜層壓應(yīng)力驟升至1.5 GPa，厚膜立即卷曲開裂；同時局部溫升可超300 ℃，引發(fā)不銹鋼基底回火軟化，尺寸超差。對策：設(shè)置功率密度≤2 W cm?2，采用脈沖射頻占空30%，并實(shí)時監(jiān)測反射功率＜5 W，經(jīng)此金屬表面處理優(yōu)化，膜層應(yīng)力可控在0.3 GPa，表面保持鏡面，保障批量金屬表面處理真空鍍膜良品率，延長金屬表面處理設(shè)備壽命。

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