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  • RPS基本參數(shù)
    • 品牌
    • 晟鼎精密
    • 型號
    • SPR-08
    • 用途
    • 工業(yè)用
    • 清洗方式
    • 遠(yuǎn)程等離子
    • 外形尺寸
    • 467*241*270
    • 產(chǎn)地
    • 廣東
    • 廠家
    • 晟鼎
    • 制程氣體
    • NF3、O?、CF4
    • 點火氣體/流量/壓力
    • 氬氣(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
    • 制程氣體流量
    • 8NF3sLm
    • 工作氣壓
    • 1-10torr
    • 離化率
    • ≥95%
    • 進(jìn)水溫度
    • 30℃
    RPS企業(yè)商機(jī)

    晟鼎RPS遠(yuǎn)程等離子體源產(chǎn)品特性:01.duli的原子發(fā)生器;02.電感耦合等離子體技術(shù);03集成的電子控制及電源系統(tǒng),實現(xiàn)了功率自適應(yīng)調(diào)節(jié);04內(nèi)循環(huán)強(qiáng)制風(fēng)冷散熱+水冷散熱,極大程度避免環(huán)境污染內(nèi)部元器件;05.輸入電檢測,避免設(shè)備工作于異常交流輸入電壓;06.配置了模擬總線控制接口;07.先進(jìn)的表面處理工藝保證了腔體長時間穩(wěn)定的運行;08.簡化的工作模式方便了用戶的使用;06.氣體解離率高,效果可媲美進(jìn)口設(shè)備。主動網(wǎng)絡(luò)匹配技術(shù):可對不同氣體進(jìn)行阻抗匹配,使得等離子腔室獲得大能量。RPS遠(yuǎn)程等離子源原理。北京推薦RPS技術(shù)指導(dǎo)

    北京推薦RPS技術(shù)指導(dǎo),RPS

    三維NAND閃存堆疊層數(shù)的不斷增加,對刻蝕后高深寬比結(jié)構(gòu)的清洗帶來了巨大挑戰(zhàn)。其深孔或深溝槽底部的刻蝕殘留物(如聚合物)若不能徹底清理 ,將嚴(yán)重影響后續(xù)多晶硅或鎢填充的質(zhì)量,導(dǎo)致電荷陷阱和器件性能劣化。在此RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域展現(xiàn)出其獨特優(yōu)勢。由于等離子體在遠(yuǎn)程生成,其主要產(chǎn)物是電中性的自由基,這些自由基具有較好的擴(kuò)散能力,能夠無阻礙地深入深寬比超過60:1的結(jié)構(gòu)底部,與殘留物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并將其轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性氣體排出。相較于直接等離子體,RPS技術(shù)避免了因離子鞘層效應(yīng)導(dǎo)致的清洗不均勻問題,確保了從結(jié)構(gòu)頂部到底部的均勻清潔,且不會因離子轟擊造成結(jié)構(gòu)側(cè)壁的物理損傷。這使得RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域成為3D NAND制造中實現(xiàn)高良率、高可靠性的主要 技術(shù)之一。安徽國內(nèi)RPS腔室遠(yuǎn)程等離子源在航空航天電子輻射加固工藝中提升器件可靠性。

    北京推薦RPS技術(shù)指導(dǎo),RPS

    RPS遠(yuǎn)程等離子源如何應(yīng)對高深寬比結(jié)構(gòu)的清洗挑戰(zhàn):在半導(dǎo)體制造中,高深寬比結(jié)構(gòu)(如深孔或溝槽)的清洗極為困難,傳統(tǒng)方法難以滲透。RPS遠(yuǎn)程等離子源通過其高擴(kuò)散性的自由基,能夠深入微觀結(jié)構(gòu),均勻去除殘留物。例如,在3D NAND閃存制造中,RPS遠(yuǎn)程等離子源可用于蝕刻間隔層或清理 蝕刻副產(chǎn)物,而不導(dǎo)致結(jié)構(gòu)坍塌。其精確的化學(xué)控制避免了過度刻蝕,確保了關(guān)鍵尺寸的完整性。隨著器件結(jié)構(gòu)日益復(fù)雜,RPS遠(yuǎn)程等離子源成為實現(xiàn)下一代技術(shù)的關(guān)鍵賦能工具。

    傳統(tǒng)等離子清洗技術(shù)(如直接等離子體)常因高能粒子轟擊導(dǎo)致工件損傷,尤其不適用于精密器件。相比之下,RPS遠(yuǎn)程等離子源通過分離生成區(qū)與反應(yīng)區(qū),只 輸送長壽命的自由基到處理區(qū)域,從而實現(xiàn)了真正的“軟”清洗。這種技術(shù)不僅減少了離子轟擊風(fēng)險,還提高了工藝的可控性。例如,在MEMS器件制造中,RPS遠(yuǎn)程等離子源能夠精確去除有機(jī)污染物而不影響微結(jié)構(gòu)。此外,其靈活的氣體選擇支持多種應(yīng)用,從氧化物刻蝕到表面活化。因此,RPS遠(yuǎn)程等離子源正逐步取代傳統(tǒng)方法,成為高級 制造的優(yōu)先。在生物傳感器制造中提升檢測靈敏度。

    北京推薦RPS技術(shù)指導(dǎo),RPS

    RPS遠(yuǎn)程等離子源在航空航天領(lǐng)域的應(yīng)用:航空航天組件常使用高溫合金或復(fù)合材料,其制造過程需要高精度清潔。RPS遠(yuǎn)程等離子源能夠去除油脂、氧化物或其他污染物,確保涂層或粘接的可靠性。在渦輪葉片涂層沉積前,使用RPS遠(yuǎn)程等離子源進(jìn)行表面處理,可以提升涂層的附著力和耐久性。其低損傷特性保護(hù)了精密部件,避免了疲勞壽命的降低。隨著航空航天標(biāo)準(zhǔn)日益嚴(yán)格,RPS遠(yuǎn)程等離子源成為確保組件性能的關(guān)鍵技術(shù)。金屬部件的腐蝕常始于表面污染物或缺陷。RPS遠(yuǎn)程等離子源可用于清潔和活化金屬表面,提升防護(hù)涂層(如油漆或電鍍)的附著力。其均勻的處理確保了整個表面的一致性,避免了局部腐蝕。在汽車或海洋工程中,采用RPS遠(yuǎn)程等離子源預(yù)處理部件,可以明顯 延長其使用壽命。此外,其環(huán)保過程減少了化學(xué)清洗劑的使用,降低了環(huán)境 impact。在燃料電池制造中優(yōu)化電極界面。湖南國產(chǎn)RPS推薦廠家

    在汽車電子中確保惡劣環(huán)境下可靠性。北京推薦RPS技術(shù)指導(dǎo)

    RPS遠(yuǎn)程等離子源的維護(hù)與壽命延長效益:設(shè)備停機(jī)時間是制造業(yè)的主要成本來源之一。RPS遠(yuǎn)程等離子源通過定期清潔沉積腔室,減少顆粒污染引起的工藝漂移,從而延長維護(hù)周期。其高效的清洗能力縮短了清潔時間,提高了設(shè)備利用率。此外,RPS遠(yuǎn)程等離子源的模塊化設(shè)計便于集成到現(xiàn)有系統(tǒng)中,無需大規(guī)模改造。用戶報告顯示,采用RPS遠(yuǎn)程等離子源后,平均維護(hù)間隔延長了30%以上,整體擁有成本明顯 降低。這對于高產(chǎn)量生產(chǎn)線來說,意味著更高的投資回報率。北京推薦RPS技術(shù)指導(dǎo)

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