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      企業(yè)商機
      閘閥基本參數(shù)
      • 品牌
      • 微泰
      • 型號
      • ZF001
      • 材質
      • 不銹鋼,鋁合金,合金鋼
      • 驅動方式
      • 氣動,手動,電子
      • 連接形式
      • 法蘭
      • 壓力環(huán)境
      • 高壓,低壓
      • 工作溫度區(qū)間
      • ≤ 200 °C
      • 適用介質
      • 水,蒸汽,氮氣,空氣
      • 外形
      • 中型
      • 流動方向
      • 雙向
      • 類型(通道位置)
      • 二通式,直動式,直通式,先導式
      • 加工定制
      • 密封形式
      • 軟密封型
      • 壓力環(huán)境類型
      • 超高壓閥(PN>100.0MPa),真空閥(PN<0.1MPa)
      • 標準
      • 日標,美標
      閘閥企業(yè)商機

      微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,插板閥,氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥-按產(chǎn)品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸,ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現(xiàn)有手動閘閥的鎖定功能(Exist Manual GV of Locking Function)。微泰氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。微泰高壓閘閥的特點是*陶瓷球機構產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:隔離泵。HV閘閥楔式閘閥

      閘閥

      微泰,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。I型和L型轉移閥是用于半導體PVD CVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它們的作用是將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽,并極大限度地減少由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化,以維持腔室內(nèi)的真空壓力。I型轉移閥由鋁或不銹鋼制成,用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。其特點是葉片在垂直方向上快速移動,以確保完美的腔室壓力維持。而L型轉移閥也由鋁或不銹鋼制造,其特點是設計緊湊,易于維護。L型轉移閥的閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動,以確保完美的腔室壓力維護。這兩種類型的轉移閥都具有高耐用性和長壽命的優(yōu)點,并且在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動,對溫度變化也非常穩(wěn)定,以確保較長的使用壽命。如果您需要了解更多關于微泰傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥的信息,請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。定制閘閥蝶閥微泰,高壓閘閥應用于? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。

      HV閘閥楔式閘閥,閘閥

      微泰,超高壓閘閥應用于? Evaporation? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? 蝕刻? Diffusion?CVD等設備上。期特點是*陶瓷球機構產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:研發(fā)和工業(yè)中的UHV隔離。高壓閘閥規(guī)格如下:驅動方式:手動或氣動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管(AM350或STS316L)、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:銅墊圈、響應時間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 、開始時的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 150 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。

      微泰半導體主加工設備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,晶圓輸送閥Transfer Valve,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。采用L型輸送閥L-motion防止產(chǎn)生微粒(Particle),無需從設備上拆卸閥門,即可更換閘門和O形圈。大量采用缸套運動導軌Liner (motion guide),實現(xiàn)高精度、高耐用性.微泰晶圓輸送閥L型輸送閥L-motion,Transfer Valve,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。這些真空閥可以手動、氣動或電子方式驅動,從而可以根據(jù)具體應用進行多功能控制。

      HV閘閥楔式閘閥,閘閥

      微泰,大閘閥、大型閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上??商娲鶹AT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點是*陶瓷球機構產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護*應用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下:驅動方式:氣動、法蘭尺寸(內(nèi)徑):16? ~ 30?、 法蘭型:ISO、JIS、ASA 、饋通:Viton O-Rin、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應時間:可調(diào)節(jié)、工作壓力范圍:1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護前可用次數(shù):10,000 ~ 100,000次、開啟時壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):6~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績,上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。 當真空閥打開時,閘門移出流路,使氣體以高電導率通過。全真空閘閥手動閥

      控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作,而多定位閘閥使用氣動控制操作。HV閘閥楔式閘閥

      微泰,鋁閘閥應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設備上。期特點是*不論什么工藝的設備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應用:隔離泵。鋁閘閥規(guī)格如下:驅動方式:手動、法蘭尺寸:1.5英寸~ 10英寸、閥體:AL6061 (Anodizing)、機械裝置:AL6061 (Anodizing)、閥門:O型圈(VITON)、真空密封:O型圈(VITON)、響應時間≤ 3 sec、驅動器:氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍:< 1×10-10 mbar ?/sec、開始時的壓差:≤ 30 mbar、初次維護前可用次數(shù)100,000次、閥體溫度≤ 120 °執(zhí)行機構溫度≤ 60 °C、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績??商娲鶹AT閥門。HV閘閥楔式閘閥

      閘閥產(chǎn)品展示
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