低真空閘閥SHIELD GATE VALVE

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。I型輸送閥，-閘門動作時無震動或沖擊-通過饋通波紋管Feedthrough bellows防止閥體污染，確保高耐用性-采用LM導軌和單鏈路（LM-guide&Single Link）結(jié)構(gòu)/小齒輪驅(qū)動方式，使其具有簡單的運動、耐用性和高精度。I型輸送閥有爪式（Jaw type）和夾式（Clamp type）。微泰晶圓輸送閥Transfer Valve，傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥Butterfly Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥流動阻力小。閥體內(nèi)部介質(zhì)通道是直通的，介質(zhì)成直線流動，流動阻力小。低真空閘閥SHIELD GATE VALVE

微泰主要產(chǎn)品有1、-手動鎖定閥：操作鎖定按鈕關(guān)閉正在抽吸中的切斷閥門切斷現(xiàn)象的源頭：2、特殊閥門：全金屬配件構(gòu)成，由電磁閥+傳感器+D-Sub+角閥組成；3、三位閥：半開功能的壓力控制閥。氣動閘閥：?產(chǎn)品范圍：1.5~30英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù)：25萬次?響應(yīng)時間：0.2秒~3秒；手動（鎖定）閘閥?產(chǎn)品范圍：1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù)：25萬次；專門用閘閥：產(chǎn)品范圍：1.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù)：25萬次，響應(yīng)時間：0.2秒客戶指定的法蘭，可安裝角閥；三位閘閥：產(chǎn)品范圍：2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù)：20萬次?響應(yīng)時間：0.2秒~3秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。隔離閘閥角控制閥控制系統(tǒng)閘閥?？刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥，以滑動方式操作，可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。

微泰半導體閘閥具有諸多特點：首先，它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導體，日本的 Micron、三星半導體等眾多設(shè)備廠批量供貨，且品質(zhì)得到認可，同時完成了對半導體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證。其次，該閘閥采用陶瓷球機構(gòu)，具有良好的抗沖擊和震動性能，保證可使用 25 萬次，且檢修方便，維護成本較低。它無 Particle 產(chǎn)生，采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外，它還具有屏蔽保護功能，閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm，能有效防止粉末侵入閥內(nèi)，壽命為半永久性。其保護環(huán)設(shè)計也很獨特，Protecrion Ring 通過流速上升設(shè)計防止粉末凝固，并通過打磨（研磨）工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。

微泰，三重防護閘閥、三防閘閥，應(yīng)用于? Evaporation? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD? 涂層? Etch? Diffusion?CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。微泰三重防護閘閥、三防閘閥其特點是? 閥門控制器（1CH ~ 4CH）? 應(yīng)用：半導體生產(chǎn)線中粉末和氣體等副產(chǎn)品的處理，防止回流。三重防護閘閥、三防閘閥規(guī)格如下：操作：氣動、法蘭尺寸（內(nèi)徑） 2.5? ~ 10?、法蘭類型ISO，KF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型環(huán)/Kalrez O型環(huán)、閥蓋密封：Viton O型圈、響應(yīng)時間：≤ 0.3 sec ~ 0.6 sec、操作壓力范圍： 1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar 8? ~ 10? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar、閘門上的壓差； 1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 10? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10-10 mbar ?/sec、維護前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。微泰，高壓閘閥應(yīng)用于? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）?CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上。

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上。這節(jié)介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥，加熱器插入閘閥：產(chǎn)品范圍：2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù)：20萬次?響應(yīng)時間：0.2秒~3秒；客戶指定法蘭，加熱溫度：450℃；蝶形閥；蝶閥：產(chǎn)品范圍：DN40、DN50隔離?泄漏率：1.0E-9mbar·l/秒；有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰靖邏洪l閥只許介質(zhì)單向流動，安裝時有方向性。它的結(jié)構(gòu)長度大于閘閥，同時流體阻力大。閘閥AKT

非金屬材料高壓閘閥有陶瓷閥門、玻璃閥門、塑料閥門。低真空閘閥SHIELD GATE VALVE

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，有氣動多位置閘閥（氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position）、氣動（鎖定）閘閥和手動（鎖定）閘閥，蝶閥，Butterfly Valve，步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve，加熱插板閥（加熱閘閥Heating gate valve），鋁閘閥（AL Gate Valve），三重防護閘閥，應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。低真空閘閥SHIELD GATE VALVE