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      企業(yè)商機(jī)
      閘閥基本參數(shù)
      • 品牌
      • 微泰
      • 型號(hào)
      • ZF001
      • 材質(zhì)
      • 不銹鋼,鋁合金,合金鋼
      • 驅(qū)動(dòng)方式
      • 氣動(dòng),手動(dòng),電子
      • 連接形式
      • 法蘭
      • 壓力環(huán)境
      • 高壓,低壓
      • 工作溫度區(qū)間
      • ≤ 200 °C
      • 適用介質(zhì)
      • 水,蒸汽,氮?dú)?空氣
      • 外形
      • 中型
      • 流動(dòng)方向
      • 雙向
      • 類型(通道位置)
      • 二通式,直動(dòng)式,直通式,先導(dǎo)式
      • 加工定制
      • 密封形式
      • 軟密封型
      • 壓力環(huán)境類型
      • 超高壓閥(PN>100.0MPa),真空閥(PN<0.1MPa)
      • 標(biāo)準(zhǔn)
      • 日標(biāo),美標(biāo)
      閘閥企業(yè)商機(jī)

      微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve,-產(chǎn)品范圍:2.5“~10”-壓力控制-使用步進(jìn)電機(jī)Stepper Motor GV,- Product Range : 2.5” ~ 10”- Pressure Controlled- Using Stepper Motor,用步進(jìn)電機(jī)/控制器操作閥門-通過(guò)步進(jìn)電機(jī)/控制器精確控制閥門的壓力-根據(jù)產(chǎn)品的不同,控制器可以安裝在客戶需要的地方,微泰,步進(jìn)電機(jī)插板閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。微泰步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。閘閥體內(nèi)設(shè)一個(gè)與介質(zhì)流向成垂直方向的平面閘板,靠這一閘板的升降來(lái)開(kāi)啟或關(guān)閉介質(zhì)的通路。蝕刻閘閥法蘭閘閥

      閘閥

      微泰,傳輸閥 (L-MOTION)、L型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工,半導(dǎo)體加工,可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 使用維修配件工具包易于維護(hù)? 應(yīng)用:半導(dǎo)體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離,傳輸閥 (L-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下:閘門密封類型:傳輸閥 (L-MOTION)、左動(dòng)轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動(dòng)方式:氣動(dòng)、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式:焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、工作壓力范圍:1×10-10 mbar to 1200 mbar、開(kāi)始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、開(kāi)啟時(shí)壓差: ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼:< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁:< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護(hù)前可用次數(shù): ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽?閘閥插板閥真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機(jī)械裝置。

      蝕刻閘閥法蘭閘閥,閘閥

      微泰,鋁閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*不論什么工藝的設(shè)備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應(yīng)用:隔離泵。鋁閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:手動(dòng)、法蘭尺寸:1.5英寸~ 10英寸、閥體:AL6061 (Anodizing)、機(jī)械裝置:AL6061 (Anodizing)、閥門:O型圈(VITON)、真空密封:O型圈(VITON)、響應(yīng)時(shí)間≤ 3 sec、驅(qū)動(dòng)器:氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍:< 1×10-10 mbar ?/sec、開(kāi)始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、初次維護(hù)前可用次數(shù)100,000次、閥體溫度≤ 120 °執(zhí)行機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。可替代VAT閥門。

      微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器,可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點(diǎn)之一是能夠遠(yuǎn)程檢查閥門狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動(dòng)調(diào)節(jié)控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開(kāi)啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力。微泰半導(dǎo)體多定位閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁il閥(gate valve)是一個(gè)啟閉件閘板,閘板的運(yùn)動(dòng)方向與流體方向相垂直,閘閥只能作全開(kāi)和全關(guān)。

      蝕刻閘閥法蘭閘閥,閘閥

      微泰轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導(dǎo)體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當(dāng)將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。此外,它極大限度地減少了由于閘板打開(kāi)和關(guān)閉造成的真空壓力變化,使腔室內(nèi)的真空壓力得以維持。負(fù)責(zé)門控半導(dǎo)體晶圓轉(zhuǎn)移的轉(zhuǎn)移閥分為兩種類型:I型和L型。一、I型轉(zhuǎn)移閥。I型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制成,用于傳輸晶圓小于450毫米的半導(dǎo)體系統(tǒng)和隔離工藝室。本型的特點(diǎn)是葉片在垂直方向上快速移動(dòng),確保完美的腔室壓力維持。它采用具有LM導(dǎo)向系統(tǒng)和單連桿的內(nèi)部機(jī)構(gòu),保證高耐用性和長(zhǎng)壽命。二、L型轉(zhuǎn)移閥。L型轉(zhuǎn)移閥產(chǎn)品由鋁或不銹鋼制造,其特點(diǎn)是設(shè)計(jì)緊湊,易于維護(hù)。L型轉(zhuǎn)移閥的特點(diǎn)是閘門在兩個(gè)階段從垂直到水平方向移動(dòng),確保完美的腔室壓力維護(hù)。它的內(nèi)部機(jī)構(gòu),包括一個(gè)LM導(dǎo)向系統(tǒng)和滯留彈簧和楔形營(yíng)地結(jié)構(gòu),保證了高耐用性和長(zhǎng)壽命,同時(shí)提供穩(wěn)定和精確的運(yùn)動(dòng)。I型和L型轉(zhuǎn)移閥在在閘門開(kāi)啟和關(guān)閉過(guò)程中極大限度地減少了振動(dòng),并且對(duì)溫度變化非常穩(wěn)定,確保了較長(zhǎng)的使用壽命。此外,即使長(zhǎng)時(shí)間使用柵極,它們產(chǎn)生的顆粒也很少,從而避免了晶圓缺陷或主器件的污染。微泰不斷創(chuàng)新,在開(kāi)發(fā)先進(jìn)的壓力控制和控制閥制造專業(yè)從事真空閘閥不懈努力。介質(zhì)可向兩側(cè)任意方向流動(dòng),易于安裝。閘閥通道兩側(cè)是對(duì)稱的。低真空閘閥HV GATE VALVE

      在機(jī)組的給水、主汽、凝結(jié)水、抽汽、空氣、循環(huán)冷卻水、軸冷水等系統(tǒng)中,均安裝有許多閘閥。蝕刻閘閥法蘭閘閥

      微泰高壓閘閥可以應(yīng)用于多種設(shè)備,如蒸發(fā)、濺射、金剛石生長(zhǎng)、PECV、PVD集群、卷對(duì)卷、涂層、蝕刻、擴(kuò)散和CVD等。它具有陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒和易于維護(hù)等特點(diǎn),可替代VAT閘閥。該閥門的規(guī)格包括手動(dòng)或氣動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式、1.5英寸至14英寸的法蘭尺寸、CF法蘭類型、焊接波紋管連接方式、氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM閥門密封、氟橡膠O型圈閥蓋密封、≤2秒響應(yīng)時(shí)間、1.5?至6?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1400 mbar,8?至14?的操作壓力范圍為1×10-10 mbar至1200 mbar、≤30 mbar的開(kāi)始時(shí)壓差、≤1400 mbar的6?以下閘門差動(dòng)壓力和≤1200 mbar的8?至14?閘門差動(dòng)壓力、<1×10 -10 Mbar/秒的泄漏率、250,000次維護(hù)前可用次數(shù)、閥體溫度≤200°、機(jī)構(gòu)溫度≤80°C、烤爐溫度≤150°C、閥體不銹鋼304或316L和驅(qū)動(dòng)器鋁6061陽(yáng)極氧化、任意安裝位置和4至7 bar的N2操作壓力。此外,微泰高壓閘閥已在中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其他設(shè)備上得到應(yīng)用。如果您需要了解更多關(guān)于微泰高壓閘閥的信息,請(qǐng)聯(lián)系上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。蝕刻閘閥法蘭閘閥

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