企業(yè)商機
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用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時,能有***的背景。可以在較小的環(huán)境里,拍到較多的景物,在相同的拍攝距離時,得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時,會產(chǎn)生******變...
魚眼鏡頭通常采用內(nèi)置濾光鏡的方式,根據(jù)拍攝需要,由攝影者操縱鏡頭上的濾光鏡轉(zhuǎn)換環(huán),使需要的濾光鏡轉(zhuǎn)換至鏡頭的攝影光路中。魚眼鏡頭的前鏡片是整個鏡頭中相當(dāng)重要的鏡片,由于它向鏡頭前部拋出,故攝影者在拍攝...
更精確的齒輪齒數(shù)此時也已得知,因此可進(jìn)一步發(fā)展新的齒輪配置模式。更正確的資訊允許萊特可以確認(rèn)普萊斯建議的后方面板的上方轉(zhuǎn)盤是顯示235個朔望月,分成五個旋轉(zhuǎn)量度的默冬章。此外,萊特還提出了驚人的看法,...
42、始用擋料銷(板)始用擋料銷(板)是供材料起始端部送進(jìn)時定位用的零件。始用擋料銷(板)都是移動式的。43、拼塊塊是組成一個完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個拼合零件。44、擋塊(板)擋塊(板)...
能強調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調(diào)前景和突出遠(yuǎn)近對比,是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調(diào)近大遠(yuǎn)小的對比度。也就是說,用廣角鏡頭拍出來的照片,近的東西更大,遠(yuǎn)的東西更小,從而...
EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴展到32nm以下的特征尺寸。根據(jù)瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),這么短的波長可以提供極高...
早在80年代,極紫外光刻技術(shù)就已經(jīng)開始理論的研究和初步的實 驗,該技術(shù) 的光源是波 長 為11~14 nm的極端遠(yuǎn)紫外光,其原理主要是利用曝光光源極短的波長達(dá)到提高光刻技術(shù)分辨率的目的。由于所有的光學(xué)...
由英國、希臘和美國**組成的安提基特拉機械研究計劃成員于2008年7月時,在機械上的一個青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個字 "Olympia",相信是用來指示卡利巴斯周期(Callippic cycle);另外也發(fā)...
得指出的是,EUV光刻技術(shù)的研發(fā)始于20世紀(jì)80年代。**早希望在半周期為70nm的節(jié)點(對應(yīng)邏輯器件130nm節(jié)點)就能用上EUV光刻機 [1]??墒牵@一技術(shù)一直達(dá)不到晶圓廠量產(chǎn)光刻所需要的技術(shù)指...
精密壓力表由測壓系統(tǒng)、傳動機構(gòu)、指示裝置和外殼組成。精密壓力表的測壓彈性元件經(jīng)特殊工藝處理,使精密壓力表性能穩(wěn)定可靠,與高精度的傳動機構(gòu)配套調(diào)試后,能確保精確的指示精度。精密壓力表主要用來校驗工業(yè)用普...
準(zhǔn)分子光刻技術(shù)作為當(dāng)前主流的光刻技術(shù),主要包括:特征尺寸為0.1μm的248 nm KrF準(zhǔn)分子激光技術(shù);特征尺寸為90 nm的193 nm ArF準(zhǔn)分子激光技術(shù);特征尺寸為65 nm的193 nm ...
f/光圈數(shù)和光圈大小調(diào)定在某一f/光圈數(shù)時的任何種類的鏡頭能夠透射過幾乎相同 光量的影象,因為光闌直徑直接與焦距相關(guān),例如,一只80毫米的鏡頭在使用5毫米的光闌直徑時,光圈必定調(diào)節(jié)在f/16上。因此鏡...
在拍攝廣闊的大場面時,攝影者一般都依靠廣角鏡頭焦距短,表現(xiàn)的景物景深長的特點,將從近到遠(yuǎn)的整個景物都納入清晰表現(xiàn)的范圍。此外,用廣角鏡頭拍攝時,如果同時采用較小的光圈,則景物的景深就會變得更長。例如,...
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。...
集成電路制造中利用光學(xué)- 化學(xué)反應(yīng)原理和化學(xué)、物理刻蝕方法,將電路圖形傳遞到單晶表面或介質(zhì)層上,形成有效圖形窗口或功能圖形的工藝技術(shù)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展,光刻技術(shù)傳遞圖形的尺寸限度縮小了2~3個數(shù)量...
電子束光刻基本上分兩大類,一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng),另一類是直接在基片上直寫納米級圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡,**早由德意志聯(lián)邦共和國杜平根大學(xué)的G.Molle...
***,安提基特拉機械前方面板是現(xiàn)代天文年鑒的前身(Parapegma),可以設(shè)定標(biāo)記特定恒星的升起。一般認(rèn)為每顆恒星都以機械上一個希臘文字母做標(biāo)記。在機械后面上方的轉(zhuǎn)盤是螺旋形,每次旋轉(zhuǎn)分成47個部...
掃描投影曝光(Scanning Project Printing)。70年代末~80年代初,〉1μm工藝;掩膜板1:1,全尺寸;步進(jìn)重復(fù)投影曝光(Stepping-repeating Project ...
西塞羅的著作《論共和國》,一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對話錄,提及兩個現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽系儀的儀器,可以預(yù)測日月和五顆行星在天球的位置。這兩個儀器都是由阿基米德制造,在阿基米德于西元前212年的敘...
46、墊板墊板是介于固定板(或凹模)與模座間的淬硬板狀零件,用以減低模座承受的單位壓縮應(yīng)力。A.每使用1500-2000小時維護(hù)保養(yǎng)應(yīng)執(zhí)行項目:1.滑潤油脂吐出油量及壓力檢知功能測試與調(diào)整.2.空氣系...
掃描投影曝光(Scanning Project Printing)。70年代末~80年代初,〉1μm工藝;掩膜板1:1,全尺寸;步進(jìn)重復(fù)投影曝光(Stepping-repeating Project ...
手動光圈定焦鏡頭手動光圈定焦鏡頭比固定光圈定焦鏡頭增加了光圈調(diào)整環(huán),光圈范圍一般從F1.2或F1.4到全關(guān)閉,能方便地適應(yīng)被被攝現(xiàn)場地光照度,光圈調(diào)整是通過手動人為進(jìn)行的。光照度比較均勻,價格較便宜。...
光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開孔,以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、...
電動三可變鏡頭與自動光圈電動變焦鏡頭相比,只是將對光圈調(diào)整電機的控制由自動控制改為由控制器來手動控制。按焦距(約50度左右),廣角鏡頭和特廣角鏡頭(100-120度)標(biāo)準(zhǔn)鏡頭視角約50度,也是人單眼在...
極紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常稱作EUV光刻,它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫...
實際上,由于液體介質(zhì)的折射率相比空氣介質(zhì)更接近曝光透鏡鏡片材料的折射率,等效地加大了透鏡口徑尺寸與數(shù)值孔徑(NA),同時可以 ***提高焦深(DOF)和曝光工藝的寬容度(EL),浸沒式光 刻 技 術(shù) ...
廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機普通廣角鏡頭的焦距一般為38-24毫米,視角為60-84度;超廣角鏡頭的焦距為20-13毫米,視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短,視角大...
至少有一個阿基米德制造的儀器相當(dāng)類似安提基特拉機械,而且直到大約西元前150年仍在使用。西塞羅提到的任何一個儀器或許并不是在沉船中找到的安提基特拉機械,因為阿基米德的設(shè)計和西塞羅所提的都是在預(yù)測的船沉...
視角范圍大,可以涵蓋大范圍景物。所謂視角范圍大,即在同一視點(與被攝物的距離保持不變)用廣角、標(biāo)準(zhǔn)和遠(yuǎn)攝三種不同焦距的攝影鏡頭取景,結(jié)果是前者要比后者在上下左右拍攝到更多的景物。當(dāng)攝影者在沒有退路的情...
用長焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物,影像質(zhì)量受天氣影響較大,紫外線、塵埃和水汽都會使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡?。因此,用長焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物時,比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對象。此外,攝影時...
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