企業(yè)商機(jī)
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英特爾高級(jí)研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說(shuō)過(guò)“針對(duì)未來(lái)的IC設(shè)計(jì),我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù),能夠滿足...
鏡頭的改變:在相同物距 和光圈的情況下,使用不同焦距的鏡頭可改變景深,鏡頭焦距越短,**深越大,對(duì)于超廣角鏡(8---15毫米),景深非常大,以致無(wú)需調(diào)焦,因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭*...
⒉較小的畸變:畸變是變焦鏡頭比較大的軟肋,幾乎所有涉及廣角的變焦鏡頭都存在明顯的畸變問(wèn)題,而定焦鏡頭因?yàn)橹恍鑼?duì)一個(gè)焦段的成像進(jìn)行糾正與優(yōu)化,所以往往很少會(huì)出現(xiàn)畸變現(xiàn)象。另外值得一提的是,旁軸相機(jī)在廣角...
c、水坑(旋覆浸沒(méi))式顯影(Puddle Development)。噴覆足夠(不能太多,**小化背面濕度)的顯影液到硅片表面,并形成水坑形狀(顯影液的流動(dòng)保持較低,以減少邊緣顯影速率的變化)。硅片固定...
主要流程光復(fù)印工藝的主要流程如圖2:曝光方式常用的曝光方式分類如下:接觸式曝光和非接觸式曝光的區(qū)別,在于曝光時(shí)掩模與晶片間相對(duì)關(guān)系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復(fù)印面積大、復(fù)印精度好、曝光設(shè)...
在拍攝廣闊的大場(chǎng)面時(shí),攝影者一般都依靠廣角鏡頭焦距短,表現(xiàn)的景物景深長(zhǎng)的特點(diǎn),將從近到遠(yuǎn)的整個(gè)景物都納入清晰表現(xiàn)的范圍。此外,用廣角鏡頭拍攝時(shí),如果同時(shí)采用較小的光圈,則景物的景深就會(huì)變得更長(zhǎng)。例如,...
定焦鏡頭(prime lens)是指只有一個(gè)固定焦距的鏡頭,沒(méi)有焦段一說(shuō),或者說(shuō)只有一個(gè)視野。定焦鏡頭沒(méi)有變焦功能。 [1]定焦鏡頭的設(shè)計(jì)相對(duì)變焦鏡頭而言要簡(jiǎn)單得多,但一般變焦鏡頭在變焦過(guò)程中對(duì)成像會(huì)...
2005年,X射線檢測(cè)提供了關(guān)鍵的線索——?dú)埰瑑?nèi)部隱藏了數(shù)千個(gè)一直都未曾被閱讀的字符。雷姆在1905年到1906年間的研究筆記表示,前板載有可知太陽(yáng)和行星位置的同心環(huán)形天象演示系統(tǒng)。裝置配有前、后兩蓋...
商用級(jí)的數(shù)碼相機(jī)中多使用與普通35 mm相機(jī)相同的普通廣角鏡頭,由于其在景深深,拍攝范圍廣等優(yōu)點(diǎn),因而在選擇數(shù)碼相機(jī)時(shí),同樣性能的數(shù)碼相機(jī),能夠具有廣角和遠(yuǎn)距的數(shù)碼相機(jī)將會(huì)性能更好一些。按結(jié)構(gòu)固定光圈...
顯影中的常見(jiàn)問(wèn)題:a、顯影不完全(Incomplete Development)。表面還殘留有光刻膠。顯影液不足造成;b、顯影不夠(Under Development)。顯影的側(cè)壁不垂直,由顯影時(shí)間不...
用長(zhǎng)焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物,影像質(zhì)量受天氣影響較大,紫外線、塵埃和水汽都會(huì)使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡?。因此,用長(zhǎng)焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物時(shí),比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對(duì)象。此外,攝影時(shí)...
用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時(shí),能有***的背景??梢栽谳^小的環(huán)境里,拍到較多的景物,在相同的拍攝距離時(shí),得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時(shí),會(huì)產(chǎn)生******變...
舉例來(lái)說(shuō),對(duì)某一確定的被攝體,水平方向需要200個(gè)像素才能再現(xiàn)其細(xì)節(jié),如果成像寬度為10mm,則光學(xué)分辨率為20線/mm的鏡頭就能勝任,如果成像寬度為1mm,則要求鏡頭的光學(xué)分辨率必須在200線/毫米...
為把193i技術(shù)進(jìn)一步推進(jìn)到32和22nm的技術(shù)節(jié)點(diǎn)上,光刻**一直在尋找新的技術(shù),在沒(méi)有更好的新光刻技術(shù)出現(xiàn)前,兩次曝光技術(shù)(或者叫兩次成型技術(shù),DPT)成為人們關(guān) 注 的 熱 點(diǎn)。ArF浸沒(méi)式兩次...
由英國(guó)、希臘和美國(guó)**組成的安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員于2008年7月時(shí),在機(jī)械上的一個(gè)青銅轉(zhuǎn)盤發(fā)現(xiàn)了一個(gè)字 "Olympia",相信是用來(lái)指示卡利巴斯周期(Callippic cycle);另外也發(fā)...
CS型鏡頭With a 5 mm adapter ring, a C lens can be used on a CS-mount camera.U型鏡頭一種可變焦距的鏡頭,其法蘭焦距為47.526m...
視角范圍大,可以涵蓋大范圍景物。所謂視角范圍大,即在同一視點(diǎn)(與被攝物的距離保持不變)用廣角、標(biāo)準(zhǔn)和遠(yuǎn)攝三種不同焦距的攝影鏡頭取景,結(jié)果是前者要比后者在上下左右拍攝到更多的景物。當(dāng)攝影者在沒(méi)有退路的情...
目前,安提基特拉機(jī)械已被基本復(fù)原。 [5]以下是托尼·弗里思研究團(tuán)隊(duì)的***復(fù)原成果。安提基特拉裝置的制作者無(wú)論使用什么周期數(shù)據(jù),都需要遵循三個(gè)標(biāo)準(zhǔn):精確性、可分解性與經(jīng)濟(jì)性。簡(jiǎn)省且高效,是安提基特拉...
校準(zhǔn)的基本要求校準(zhǔn)應(yīng)滿足的基本要求如下:1.環(huán)境條件校準(zhǔn)如在檢定(校準(zhǔn))室進(jìn)行,則環(huán)境條件應(yīng)滿足實(shí)驗(yàn)室要求的溫度、濕度等規(guī)定。校準(zhǔn)如在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行,則環(huán)境條件以能滿足儀表現(xiàn)場(chǎng)使用的條件為準(zhǔn)。2.儀器作為校...
使用長(zhǎng)焦距鏡頭拍攝具有以下幾個(gè)方面的特點(diǎn): [3]視角小所以,拍攝的景物空間范圍也小,在相同的拍攝距離處,所拍攝的影像大于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭,適用于拍攝遠(yuǎn)處景物的細(xì)部和拍攝不易接近的被攝體 [3]。景深短所以,...
主要技術(shù)指標(biāo):○精密壓力表測(cè)量范圍、精確度等級(jí)○型號(hào)、彈簧管材料、測(cè)量范圍MPa、精確度等級(jí)、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)○精密壓力表使用環(huán)境條件:5~40℃,相對(duì)濕度不大于80%,且環(huán)境震動(dòng)和壓力源的波動(dòng)對(duì)儀表的精確讀...
半導(dǎo)體器件和集成電路對(duì)光刻曝光技術(shù)提出了越來(lái)越高的要求,在單位面積上要求完善傳遞圖像的信息量已接近常規(guī)光學(xué)的極限。光刻曝光的常用波長(zhǎng)是3650~4358 埃,預(yù)計(jì)實(shí)用分辨率約為1微米。幾何光學(xué)的原理,...
已找到一個(gè)制造于5或6世紀(jì)拜占庭帝國(guó),和一個(gè)日晷相連接的日期齒輪的殘?。辉搩x器可能是做為報(bào)時(shí)輔助。在**世界中,西元9世紀(jì)早期阿拉伯帝國(guó)的哈里發(fā)委托巴努·穆薩寫下的《巧妙設(shè)備之書》(Book of I...
德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經(jīng)過(guò)前人數(shù)十年為了了解該裝置的研究后,1951年英國(guó)科學(xué)歷史學(xué)家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對(duì)該機(jī)械進(jìn)行了系統(tǒng)性研究。普萊斯以標(biāo)題“時(shí)鐘以前的發(fā)條裝置”(Clockwork...
22、壓料檻壓料檻是斷面呈矩形的壓料筋特稱。參閱“壓料筋”。23、承料板承料板是用于接長(zhǎng)凹模上平面,承托沖壓材料的板狀零件。24、連續(xù)模連續(xù)模是具有兩個(gè)或更多工位的沖模,材料隨壓力機(jī)行程逐次送進(jìn)一工位...
攝影者也許會(huì)有這樣的體會(huì):在照相機(jī)上裝上一個(gè)遠(yuǎn)攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機(jī)取景器中觀察,竟一時(shí)無(wú)法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位,不得已,只好將眼睛離開照相機(jī)取景目鏡眺望實(shí)景,方搞清楚原來(lái)是鏡頭視野...
1.氣相成底模2.旋轉(zhuǎn)烘膠3.軟烘4.對(duì)準(zhǔn)和曝光5.曝光后烘焙(PEB)6.顯影7.堅(jiān)膜烘焙8.顯影檢查光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個(gè)主要工藝。是對(duì)半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進(jìn)行開...
28、頂板頂板是在凹?;蚰K內(nèi)活動(dòng)的板狀零件,以向上動(dòng)作直接或間接頂出工(序)件或廢料。29、齒圈齒圈是精沖凹?;驇X壓料板上的成圈齒形突起,是凹模或帶齒壓料板的局部結(jié)構(gòu)而不是單獨(dú)的零件。30、限位套...
廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。135照相機(jī)普通廣角鏡頭的焦距一般為38-24毫米,視角為60-84度;超廣角鏡頭的焦距為20-13毫米,視角為94-118度。由于廣角鏡頭的焦距短,視角大...
光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器,其比較大基片尺寸為6英寸,可實(shí)現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過(guò)精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移,為集成電路...
2026.01.22 張家港購(gòu)買光刻系統(tǒng)選擇
2026.01.22 江蘇比較好的光刻系統(tǒng)批量定制
2026.01.22 吳江區(qū)供應(yīng)精密調(diào)整裝置批量定制
2026.01.22 江蘇省電光刻系統(tǒng)量大從優(yōu)
2026.01.22 吳江區(qū)省電光刻系統(tǒng)選擇
2026.01.22 姑蘇區(qū)省電光刻系統(tǒng)按需定制
2026.01.22 常熟本地精密調(diào)整裝置工廠直銷
2026.01.22 南通省電光刻系統(tǒng)選擇
2026.01.22 太倉(cāng)購(gòu)買光刻系統(tǒng)選擇
2026.01.21 蘇州省電光刻系統(tǒng)五星服務(wù)
2026.01.21 常熟供應(yīng)精密調(diào)整裝置批量定制
2026.01.21 江蘇供應(yīng)精密調(diào)整裝置量大從優(yōu)
2026.01.21 工業(yè)園區(qū)銷售精密調(diào)整裝置工廠直銷
2026.01.21 徐州常見(jiàn)精密調(diào)整裝置批量定制
2026.01.21 吳中區(qū)銷售光刻系統(tǒng)多少錢
2026.01.21 連云港銷售精密調(diào)整裝置工廠直銷
2026.01.21 相城區(qū)比較好的光學(xué)鏡頭規(guī)格尺寸
2026.01.21 常熟供應(yīng)光刻系統(tǒng)批量定制
2026.01.21 淮安耐用精密調(diào)整裝置按需定制
2026.01.20 張家港比較好的光學(xué)鏡頭批量定制