企業(yè)商機
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33、固定板固定板是固定凸模的板狀零件。34、固定卸料板固定卸料板是固定在沖模上位置不動的卸料板。(參閱“卸料板”)。35、固定擋料銷(板)固定擋料銷(板)是在模具內(nèi)固定不動的擋料銷(板)。(參閱“擋...
1:可用機電式驅(qū)動器或液壓缸作為驅(qū)動動力。2:快速、精確地對卷材進行定位,使用的卷材寬度可達1930mm(76.0″)。3:低摩擦滾珠軸套和轉(zhuǎn)動桿的設(shè)計。4:耐用的結(jié)構(gòu)設(shè)計可長時間連續(xù)使用,**降低維...
極紫外光刻(Extreme Ultra-violet),常稱作EUV光刻,它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫...
1、廣角鏡頭拍攝的景物,近處大、遠處小,******效果夸張。被攝體越靠近鏡頭夸張越明顯。所以,拍攝人像時,人物不能靠相機太近,否則很容易拍出“肥鼻鼠耳”的變形照片。當然,利用這種效果拍攝的藝術(shù)作品除...
由于193nm沉浸式工藝的延伸性非常強,同時EUV技術(shù)耗資巨大進展緩慢。EUV(極紫外線光刻技術(shù))是下一代光刻技術(shù)(<32nm節(jié)點的光刻技術(shù))。它是采用波長為13.4nm的軟x射線進行光刻的技術(shù)。EU...
光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。...
西塞羅的著作《論共和國》,一本西元前一世紀的哲學(xué)對話錄,提及兩個現(xiàn)代被認為是某種天象儀或太陽系儀的儀器,可以預(yù)測日月和五顆行星在天球的位置。這兩個儀器都是由阿基米德制造,在阿基米德于西元前212年的敘...
光刻機系統(tǒng)是材料科學(xué)領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,通過光學(xué)成像原理將掩模版上的微細圖形精確轉(zhuǎn)移到光刻膠表面。系統(tǒng)配置1Kw近紫外光源與6V/30W顯微鏡燈適配器,配備氣動防震臺保障精密操作環(huán)境,其技術(shù)參數(shù)截至202...
光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗儀器,其比較大基片尺寸為6英寸,可實現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移,為集成電路...
手動光圈定焦鏡頭手動光圈定焦鏡頭比固定光圈定焦鏡頭增加了光圈調(diào)整環(huán),光圈范圍一般從F1.2或F1.4到全關(guān)閉,能方便地適應(yīng)被被攝現(xiàn)場地光照度,光圈調(diào)整是通過手動人為進行的。光照度比較均勻,價格較便宜。...
能強調(diào)前景和突出遠近對比。這是廣角鏡頭的另一個重要性能。所謂強調(diào)前景和突出遠近對比,是指廣角鏡頭能比其他鏡頭更加強調(diào)近大遠小的對比度。也就是說,用廣角鏡頭拍出來的照片,近的東西更大,遠的東西更小,從而...
鏡頭的另一個重點在變焦能力。所謂的變焦能力包括光學(xué)變焦(optical zoom)與數(shù)碼變焦(digital zoom)兩種。兩者雖然都有助于望遠拍攝時放大遠方物體,但是只有光學(xué)變焦可以支持圖像主體成...
邊緣光刻膠的去除光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。邊緣的光刻膠一般涂布不均勻,不能得到很好的圖形,而且容易發(fā)生剝離(Peeling)而影響其它部分的圖形。所以需要去除。方法:a、化...
電子束光刻基本上分兩大類,一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng),另一類是直接在基片上直寫納米級圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡,**早由德意志聯(lián)邦共和國杜平根大學(xué)的G.Molle...
浸沒式光刻技術(shù)所面臨的挑戰(zhàn)主要有:如何解決曝光中產(chǎn)生的氣泡和污染等缺陷的問題;研發(fā)和水具有良好的兼容性且折射率大于1.8的光刻膠的問題;研發(fā)折射率較大的光學(xué)鏡頭材料和浸沒液體材料;以 及 有 效 數(shù) ...
以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例,標準鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭,它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標準鏡頭給人以記實性的視覺效果畫面,所以在實際的拍攝中,它的...
至少有一個阿基米德制造的儀器相當類似安提基特拉機械,而且直到大約西元前150年仍在使用。西塞羅提到的任何一個儀器或許并不是在沉船中找到的安提基特拉機械,因為阿基米德的設(shè)計和西塞羅所提的都是在預(yù)測的船沉...
攝影者也許會有這樣的體會:在照相機上裝上一個遠攝鏡頭并從單鏡頭反光照相機取景器中觀察,竟一時無法想象充盈于取景器畫面的景象在何方位,不得已,只好將眼睛離開照相機取景目鏡眺望實景,方搞清楚原來是鏡頭視野...
極紫外光刻系統(tǒng)是采用13.5納米波長極紫外光源的半導(dǎo)體制造**設(shè)備,可將芯片制程推進至7納米、5納米及更先進節(jié)點。該系統(tǒng)由荷蘭阿斯麥公司于2019年推出第五代產(chǎn)品,突破光學(xué)衍射極限,將摩爾定律物理極限...
德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯經(jīng)過前人數(shù)十年為了了解該裝置的研究后,1951年英國科學(xué)歷史學(xué)家德瑞克·約翰·德索拉·普萊斯對該機械進行了系統(tǒng)性研究。普萊斯以標題“時鐘以前的發(fā)條裝置”(Clockwork...
以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例,魚眼鏡頭是一種焦距約在6-16毫米之間的短焦距超廣角攝影鏡頭,“魚眼鏡頭”是它的俗稱。為使鏡頭達到比較大的攝影視角,這種攝影鏡頭的前鏡片直徑且呈拋物狀向...
廣角鏡頭是一種焦距短于標準鏡頭、視角大于標準鏡頭、焦距長于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38-24毫米,視角為60-84度;...
廣角鏡頭是一種焦距短于標準鏡頭、視角大于標準鏡頭、焦距長于魚眼鏡頭、視角小于魚眼鏡頭的攝影鏡頭。廣角鏡頭又分為普通廣角鏡頭和超廣角鏡頭兩種。普通廣角鏡頭的焦距一般為38-24毫米,視角為60-84度;...
基于更多暫定的觀察結(jié)果,萊特也認為儀器后面下方的轉(zhuǎn)盤是計算交點月,是用來預(yù)測日月食的。所有的研究結(jié)果都已經(jīng)納入萊特的模式,并且可制造一個擁有以上機制的機器并成功運作。盡管有高分辨率的線性斷層掃描造影,...
兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理,**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝...
主要技術(shù)指標:○精密壓力表測量范圍、精確度等級○型號、彈簧管材料、測量范圍MPa、精確度等級、結(jié)構(gòu)特點○精密壓力表使用環(huán)境條件:5~40℃,相對濕度不大于80%,且環(huán)境震動和壓力源的波動對儀表的精確讀...
2、廣角鏡頭使用遮光罩或濾色鏡時,很容易遮擋鏡頭視角的周圍,使像場發(fā)暗,而這一情況,在取景時不容易察覺,但在照片上卻很明顯。因此,運用附件時, 一定要從說明書上了解清楚它們的使用范圍。如果說明書中沒有...
EUV光刻采用波長為10-14納米的極紫外光作為光源,可使曝光波長一下子降到13.5nm,它能夠把光刻技術(shù)擴展到32nm以下的特征尺寸。根據(jù)瑞利公式(分辨率=k1·λ/NA),這么短的波長可以提供極高...
制造掩模版,比較靈活。但由于其曝光效率低,主要用于實驗室小樣品納米制造。而電子束曝光要適應(yīng)大批量生產(chǎn),如何進一步提高曝光速度是個難題。為了解決電子束光刻的效率問題,通常將其與其他光刻技術(shù)配合使用。例如...
以適用于35毫米單鏡頭反光照相機的交換鏡頭為例,標準鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭,它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標準鏡頭給人以記實性的視覺效果畫面,所以在實際的拍攝中,它的...
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