滾鍍?cè)O(shè)備特點(diǎn):
滾鍍?cè)O(shè)備是工件在滾筒內(nèi)進(jìn)行電鍍,其與掛鍍件比較大的不同是使用了滾筒,滾筒承載工件在不停翻滾過(guò)程中受鍍。滾筒一般呈六棱柱狀,水平臥式放置,設(shè)計(jì)一面開(kāi)口,電鍍時(shí)工件從開(kāi)口處裝進(jìn)電鍍滾筒內(nèi)。滾筒材質(zhì)包括PP板、網(wǎng)板式、亞克力板、不銹鋼板等。電鍍時(shí),工件與陽(yáng)極間電流的導(dǎo)通,筒內(nèi)外溶液的更新及廢氣排出等,均需通過(guò)滾筒上的小孔實(shí)現(xiàn)。滾筒陰極導(dǎo)電裝置采用銅線或銅棒,借助滾筒內(nèi)工件自身重力,與陰極導(dǎo)電裝置自然連接。滾筒的結(jié)構(gòu)、尺寸、大小、轉(zhuǎn)速、導(dǎo)電方式及開(kāi)孔率等諸多因素,均與滾鍍生產(chǎn)效率、鍍層質(zhì)量相關(guān),因此滾筒會(huì)根據(jù)不同客戶(hù)需求設(shè)計(jì)定制。
超聲波分散技術(shù),納米顆粒共沉積率 30%。海南實(shí)驗(yàn)電鍍?cè)O(shè)備圖片
納米貴金屬催化劑載體的制備技術(shù):
貴金屬小實(shí)驗(yàn)槽通過(guò)共沉積工藝實(shí)現(xiàn)納米顆粒負(fù)載。在金電解液中添加TiO?納米顆粒(粒徑20nm),結(jié)合超聲波分散(功率150W),可在碳?xì)直砻婢鶆蜇?fù)載Au-TiO?復(fù)合鍍層。實(shí)驗(yàn)表明,當(dāng)電流密度為1.2A/dm2時(shí),TiO?負(fù)載量達(dá)25%,催化劑對(duì)CO氧化反應(yīng)的活性提升3倍。設(shè)備配備的在線粒度監(jiān)測(cè)儀實(shí)時(shí)反饋顆粒分散狀態(tài),確保工藝穩(wěn)定性。一些新能源公司利用該技術(shù)制備的燃料電池催化劑,鉑用量減少50%,性能保持率提升至90%。
海南實(shí)驗(yàn)電鍍?cè)O(shè)備圖片碳納米管復(fù)合鍍層,導(dǎo)電性提升 3 倍。
雙桶式電鍍滾筒特點(diǎn)
雙桶并行:
同步處理提升40%產(chǎn)能,階梯設(shè)計(jì)優(yōu)化能耗。精密控鍍:正反轉(zhuǎn)交替+智能溫控,鍍層厚度波動(dòng)≤5%。環(huán)保高效:自清潔+廢液回用90%,符合ROHS及三價(jià)鉻標(biāo)準(zhǔn)。智能驅(qū)動(dòng):磁耦合密封防漏,伺服電機(jī)±0.1°精細(xì)定位。復(fù)雜適配:六棱柱/圓柱筒體,消除凹槽盲孔鍍層死角。
選型建議
高精密小件:選擇PTFE涂層滾筒(如志成達(dá)定制款)復(fù)雜形狀工件:雙六棱柱滾筒+振動(dòng)輔助(如深圳志成達(dá)智能型)貴金屬電鍍:鈦合金內(nèi)襯+磁耦合驅(qū)動(dòng)(如FanucSR-6iA配套機(jī)型)
貴金屬小實(shí)驗(yàn)槽,是實(shí)驗(yàn)室微型電鍍裝置,用于金、銀等貴金屬的高精度沉積研究。設(shè)計(jì)聚焦三點(diǎn):材料與結(jié)構(gòu):采用特氟龍/石英材質(zhì)槽體(容積≤1L),耐強(qiáng)酸腐蝕且防污染;透明槽體便于觀察,可拆卸電極支架適配微型基材(芯片/細(xì)絲)。工藝控制:配備不可溶性陽(yáng)極(鈦基DSA)、Ag/AgCl參比電極及脈沖電源(0~10A/0~20V),支持恒電位沉積;溫控精度±0.1℃,低轉(zhuǎn)速磁力攪拌(≤300rpm)保障鍍層均勻。環(huán)保安全:全封閉防護(hù)罩+活性炭過(guò)濾通風(fēng),內(nèi)置離子交換柱回收貴金屬;雙重液位傳感器自動(dòng)補(bǔ)液,防止溶液蒸發(fā)導(dǎo)致濃度波動(dòng)。典型應(yīng)用:微電子器件鍍金工藝研發(fā)、珠寶表面處理優(yōu)化、納米催化劑載體沉積實(shí)驗(yàn)。梯度鍍層設(shè)計(jì),緩解熱膨脹應(yīng)力開(kāi)裂。

實(shí)驗(yàn)室電鍍?cè)O(shè)備,專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì),用于電鍍工藝研究、教學(xué)實(shí)驗(yàn)及小批量樣品制備。通過(guò)電化學(xué)反應(yīng),在工件表面沉積金屬或合金鍍層,實(shí)現(xiàn)材料性能優(yōu)化與新產(chǎn)品研發(fā)。設(shè)備由電鍍槽(盛電解液)、電源模塊(穩(wěn)定電流電壓)、電極系統(tǒng)(陽(yáng)極、陰極夾具)、溫控與過(guò)濾系統(tǒng)(控溫、凈化雜質(zhì))構(gòu)成。功能包括:鍍層性能研發(fā)(如厚度、結(jié)合力測(cè)試),電鍍工藝參數(shù)優(yōu)化(調(diào)控電流密度、pH值),還可完成電子元件、科研樣品等小批量精密零件電鍍。其具備三大特點(diǎn):小型化設(shè)計(jì)省空間;功能靈活,適配鍍金、鍍銅、鍍鎳等多元需求;精度高,精細(xì)控制鍍層質(zhì)量。廣泛應(yīng)用于高校材料教學(xué)實(shí)驗(yàn)、科研機(jī)構(gòu)鍍層技術(shù)研究、企業(yè)新品電鍍工藝開(kāi)發(fā),以及小型精密部件的試制生產(chǎn)。半導(dǎo)體晶圓電鍍,邊緣厚度誤差<2μm。湖北本地實(shí)驗(yàn)電鍍?cè)O(shè)備
快速換模設(shè)計(jì),配方切換只需 3 分鐘。海南實(shí)驗(yàn)電鍍?cè)O(shè)備圖片
環(huán)保型桌面電鍍系統(tǒng)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)緊湊型環(huán)保電鍍?cè)O(shè)備采用模塊化設(shè)計(jì),占地面積<0.5㎡。技術(shù)包括:①無(wú)氰電解液(如檸檬酸鹽體系),毒性降低90%且鍍層結(jié)合力>12MPa;②內(nèi)置超濾膜系統(tǒng),水回用率達(dá)80%;③活性炭吸附柱自動(dòng)再生,貴金屬回收率>98%。某醫(yī)療器材實(shí)驗(yàn)室使用該設(shè)備實(shí)現(xiàn)鈦合金表面銀鍍層,耐鹽霧時(shí)間>1000小時(shí),符合ISO13485標(biāo)準(zhǔn)。設(shè)備配備廢液電導(dǎo)傳感器,超標(biāo)自動(dòng)報(bào)警并切換至應(yīng)急處理模式,確保排放<0.5mg/L重金屬。海南實(shí)驗(yàn)電鍍?cè)O(shè)備圖片