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超聲掃描顯微鏡的檢測(cè)模式有哪些差異？

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杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司2025-11-20

反射模式：通過(guò)檢測(cè)樣品內(nèi)部界面反射的超聲波，定位分層、裂紋等缺陷。適用于半導(dǎo)體封裝檢測(cè)，可識(shí)別微米級(jí)空洞，檢測(cè)深度達(dá)10mm。

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簡(jiǎn)介：杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司是一家專業(yè)從事半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售為一體的科技型企業(yè)。

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水浸式超聲掃描儀2

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杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 2025-11-23

透射模式：測(cè)量穿透樣品的超聲波能量，評(píng)估材料均勻性。常用于復(fù)合材料孔隙率檢測(cè)，檢測(cè)速度比反射模式**倍，但無(wú)法定位缺陷深度。

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杭州芯紀(jì)源半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 2025-11-26

C掃描模式：提供特定深度的水平截面視圖，精細(xì)定位缺陷平面分布。在晶圓級(jí)封裝檢測(cè)中，可生成高分辨率二維圖像，缺陷識(shí)別準(zhǔn)確率達(dá)98%。

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