金屬表面處理真空鍍膜沉積薄膜厚度不均勻如何處理？

廣東華升納米科技股份有限公司2025-11-22

金屬表面處理真空鍍膜出現(xiàn)厚度不均，會惡化產品光學、電學及耐蝕性能。常見原因：靶材侵蝕環(huán)不對稱、基片架轉速不穩(wěn)、氣體流場紊亂、靶基距不合理或擋板積渣遮擋。處理時，先拆靶測量侵蝕溝，若偏心立即調正靶位并做動平衡；其次校調變頻馬達，使行星架轉速穩(wěn)定在設定值±1 rpm；再優(yōu)化勻氣環(huán)孔徑分布，必要時加導流片，讓反應氣體在基片表面形成均勻流場；同時按仿真結果把靶基距調至佳值，并定期清理擋板與屏蔽罩，防止濺射粒子二次遮擋。對大面積產線，可在腔室不同方位布在線石英晶振或光學測厚探頭，實時閉環(huán)調節(jié)靶功率，實現(xiàn)金屬表面處理膜厚差異≤±2 %，提升金屬表面處理良品率與一致性。

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