真空與常壓等離子設(shè)備原理應(yīng)用區(qū)別及如何選擇？

深圳市方瑞科技有限公司2025-12-31

真空與常壓等離子清洗機(jī)的區(qū)別：原理上，真空機(jī)型需抽至 1-100Pa 真空度，經(jīng)射頻 / 微波激發(fā)均勻等離子體，粒子自由程長(zhǎng)、能量集中無(wú)干擾，可深度均勻改性及無(wú)死角處理；常壓機(jī)型于標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下開(kāi)放放電，無(wú)需真空系統(tǒng)、可在線連續(xù)運(yùn)行，但等離子體密度與均勻性較低，易受環(huán)境影響。應(yīng)用上，真空設(shè)備適配半導(dǎo)體、精密光學(xué)、醫(yī)療植入物等高潔凈度、高精度及微小隱蔽部位場(chǎng)景；常壓設(shè)備適用于 FPC、包裝材料、卷對(duì)卷柔性電子等大面積、規(guī)?；a(chǎn)場(chǎng)景。選擇需綜合工件尺寸、潔凈度要求、處理復(fù)雜度、生產(chǎn)模式及成本預(yù)算：微小隱蔽或高價(jià)值精密工件優(yōu)先真空機(jī)型，大面積在線高效處理選常壓機(jī)型。

本回答由 深圳市方瑞科技有限公司 提供