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  • RPS基本參數(shù)
    • 品牌
    • 晟鼎精密
    • 型號
    • SPR-08
    • 用途
    • 工業(yè)用
    • 清洗方式
    • 遠(yuǎn)程等離子
    • 外形尺寸
    • 467*241*270
    • 產(chǎn)地
    • 廣東
    • 廠家
    • 晟鼎
    • 制程氣體
    • NF3、O?、CF4
    • 點火氣體/流量/壓力
    • 氬氣(Ar)/1-6AR sIm/1-8 torr
    • 制程氣體流量
    • 8NF3sLm
    • 工作氣壓
    • 1-10torr
    • 離化率
    • ≥95%
    • 進水溫度
    • 30℃
    RPS企業(yè)商機

    對于GaN、SiC等化合物半導(dǎo)體和MEMS傳感器等精密器件,傳統(tǒng)的等離子體工藝因其高能離子轟擊和熱效應(yīng)容易造成器件性能的不可逆損傷。RPS遠(yuǎn)程等離子源應(yīng)用領(lǐng)域在此提供了低損傷、高精度的解決方案。在GaN HEMT器件的制造中,RPS可用于柵極凹槽的刻蝕預(yù)處理或刻蝕后殘留物的清理 ,其低離子能量特性確保了AlGaN勢壘層和二維電子氣(2DEG)不受損傷,從而維持了器件的高跨導(dǎo)和頻率特性。在MEMS制造中,關(guān)鍵的步驟是層的釋放,以形成可活動的微結(jié)構(gòu)。RPS遠(yuǎn)程等離子源能夠使用氟基或氧基自由基,溫和且均勻地刻蝕掉結(jié)構(gòu)下方的氧化硅或聚合物層,避免了因“粘附效應(yīng)”(Stiction)導(dǎo)致的結(jié)構(gòu)坍塌,極大地提升了MEMS陀螺儀、加速度計和麥克風(fēng)的良品率和可靠性。為催化材料研究提供可控表面改性平臺。重慶推薦RPS石英舟清洗

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    RPS遠(yuǎn)程等離子源(Remote Plasma Source)是一種先進的等離子體生成技術(shù),其主要 在于將等離子體的生成區(qū)與反應(yīng)區(qū)進行物理分離。這種設(shè)計通過電磁場激發(fā)工作氣體(如氧氣、氮氣或氬氣)產(chǎn)生高密度的等離子體,隨后利用氣流將活性自由基輸送到反應(yīng)腔室中。由于等離子體生成過程遠(yuǎn)離工件,RPS遠(yuǎn)程等離子源能夠有效避免高能離子和電子對敏感器件的直接轟擊,從而明顯 降低損傷風(fēng)險。在高級 制造領(lǐng)域,例如半導(dǎo)體晶圓清洗或薄膜沉積后的腔室維護,RPS遠(yuǎn)程等離子源憑借其均勻的活性粒子分布和精確的工藝控制,成為提升良品率的關(guān)鍵工具。此外,該技術(shù)還支持多種氣體組合,適應(yīng)復(fù)雜的工藝需求,幫助用戶實現(xiàn)高效、低污染的清潔和刻蝕應(yīng)用。湖南RPS價格RPS遠(yuǎn)程等離子源是一款基于電感耦合等離子體技術(shù)的自成一體的原子發(fā)生器。

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    RPS遠(yuǎn)程等離子源在高效清洗的同時,還具有明顯 的節(jié)能和環(huán)保特性。其設(shè)計優(yōu)化了氣體利用率和功率消耗,通常比傳統(tǒng)等離子體系統(tǒng)能耗降低20%以上。此外,通過使用環(huán)保氣體(如氧氣或合成空氣),RPS遠(yuǎn)程等離子源將污染物轉(zhuǎn)化為無害的揮發(fā)性化合物,減少了有害廢物的產(chǎn)生。在嚴(yán)格的環(huán)境法規(guī)下,這種技術(shù)幫助制造商實現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展目標(biāo)。例如,在半導(dǎo)體工廠,RPS遠(yuǎn)程等離子源的低碳足跡和低化學(xué)品消耗,使其成為綠色制造的關(guān)鍵組成部分。

    光伏產(chǎn)業(yè)中的薄膜沉積工藝(如硅基CVD)同樣面臨腔室污染問題。殘留膜層會干擾沉積均勻性,影響太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率。RPS遠(yuǎn)程等離子源提供了一種高效的清潔解決方案,利用氧基或氟基自由基快速分解污染物,恢復(fù)腔室潔凈狀態(tài)。其遠(yuǎn)程設(shè)計避免了等離子體直接暴露于敏感涂層,確保了工藝安全。此外,RPS遠(yuǎn)程等離子源的高能效特性有助于降低整體能耗,符合綠色制造趨勢。在大規(guī)模光伏生產(chǎn)中,采用RPS遠(yuǎn)程等離子源進行定期維護,可以明顯 提升生產(chǎn)效率和產(chǎn)品可靠性。晟鼎RPS自研PEO表面處理工藝,增加PEO膜層使用壽命,降低維護成本。

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    RPS遠(yuǎn)程等離子源在醫(yī)療器械制造中的潔凈保障在手術(shù)機器人精密零件清洗中,RPS遠(yuǎn)程等離子源采用特殊氣體配方,將生物相容性提升至ISO10993標(biāo)準(zhǔn)。通過O2/H2O遠(yuǎn)程等離子體處理,將不銹鋼表面細(xì)菌附著率降低99.9%。在植入式醫(yī)療器械制造中,RPS遠(yuǎn)程等離子源實現(xiàn)的表面潔凈度達到ISO14644-1Class4級別,確保器件通過EC認(rèn)證要求。RPS遠(yuǎn)程等離子源在新能源電池制造中的創(chuàng)新工藝在固態(tài)電池制造中,RPS遠(yuǎn)程等離子源通過Li/Ar遠(yuǎn)程等離子體活化電解質(zhì)界面,將界面阻抗從1000Ω·cm2降至50Ω·cm2。在鋰箔處理中,采用CF4/O2遠(yuǎn)程等離子體生成人工SEI膜,將循環(huán)壽命提升至1000次以上。量產(chǎn)數(shù)據(jù)顯示,采用RPS遠(yuǎn)程等離子源處理的固態(tài)電池,能量密度達500Wh/kg,倍率性能提升3倍。半導(dǎo)體和電子薄膜應(yīng)用使用等離子體源產(chǎn)生低能離子和自由基。河南半導(dǎo)體設(shè)備RPS工廠直銷

    RPS遠(yuǎn)程等離子氣體解離率高,效果可媲美進口設(shè)備。重慶推薦RPS石英舟清洗

    RPS遠(yuǎn)程等離子源在熱電材料制備中的創(chuàng)新應(yīng)用在碲化鉍熱電材料圖案化中,RPS遠(yuǎn)程等離子源通過Cl2/Ar遠(yuǎn)程等離子體實現(xiàn)各向異性刻蝕,將側(cè)壁角度控制在88±1°。通過優(yōu)化工藝參數(shù),將材料ZT值提升至1.8,轉(zhuǎn)換效率達12%。在器件集成中,RPS遠(yuǎn)程等離子源實現(xiàn)的界面熱阻<10mm2·K/W,使溫差發(fā)電功率密度達到1.2W/cm2。RPS遠(yuǎn)程等離子源在超表面制造中的精密加工在光學(xué)超表面制造中,RPS遠(yuǎn)程等離子源通過SF6/C4F8遠(yuǎn)程等離子體刻蝕氮化硅納米柱,將尺寸偏差控制在±2nm以內(nèi)。通過優(yōu)化刻蝕選擇比,將深寬比提升至20:1,使超表面工作效率達到80%。實驗結(jié)果顯示,經(jīng)RPS遠(yuǎn)程等離子源加工的超透鏡,數(shù)值孔徑達0.9,衍射極限分辨率優(yōu)于200nm。重慶推薦RPS石英舟清洗

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