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      企業(yè)商機
      閘閥基本參數(shù)
      • 品牌
      • 微泰
      • 型號
      • ZF001
      • 材質(zhì)
      • 不銹鋼,鋁合金,合金鋼
      • 驅(qū)動方式
      • 氣動,手動,電子
      • 連接形式
      • 法蘭
      • 壓力環(huán)境
      • 高壓,低壓
      • 工作溫度區(qū)間
      • ≤ 200 °C
      • 適用介質(zhì)
      • 水,蒸汽,氮氣,空氣
      • 外形
      • 中型
      • 流動方向
      • 雙向
      • 類型(通道位置)
      • 二通式,直動式,直通式,先導(dǎo)式
      • 加工定制
      • 密封形式
      • 軟密封型
      • 壓力環(huán)境類型
      • 超高壓閥(PN>100.0MPa),真空閥(PN<0.1MPa)
      • 標準
      • 日標,美標
      閘閥企業(yè)商機

      微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,三重防護閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。有-屏蔽閘閥:防止氣體和粉末進入閥內(nèi)的隔離閥,-三重防護閘閥:屏蔽1和2+保護環(huán)的3重隔離系統(tǒng),還有步進電機閘閥和鋁閘閥,屏蔽門閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù):25萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒;三級預(yù)防閘閥,三重防護閘閥:產(chǎn)品范圍:4~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù):25萬次?包括屏蔽功能;步進電機閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~10英寸?高壓/超高壓都可用?維護前可用次數(shù):25萬次?包括屏蔽功能;步進電機閘閥;鋁閘閥:產(chǎn)品范圍:2.5~12英寸?高壓氣動?維護前可用次數(shù):10萬次?響應(yīng)時間:0.2秒~3秒;有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司。閘閥多應(yīng)用于石油、天然氣等輸送管線上,在半導(dǎo)體加工工程設(shè)備上也多用閘閥。超真空閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

      超真空閘閥L型轉(zhuǎn)移閥,閘閥

      微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮氣控制閘閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個內(nèi)置控制器,可以在本地和遠程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,以應(yīng)對泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。其特點之一是能夠遠程檢查閥門狀態(tài),并可用于具有不同法蘭類型的各種工藝。多定位閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,適用于需要壓力控制的所有加工領(lǐng)域。采用手動調(diào)節(jié)控制裝置控制,用戶可直接控制閘門的開啟和關(guān)閉,以調(diào)節(jié)壓力。微泰半導(dǎo)體多定位閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁J謩娱l閥三星半導(dǎo)體金屬閥體襯里高壓閥門主要有襯膠閥門、襯氟閥門、襯鉛閥門、襯塑閥門、襯搪瓷閥門。

      超真空閘閥L型轉(zhuǎn)移閥,閘閥

      微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position 其特點是1,全開和關(guān)閉位置使用帶有位置發(fā)射器的氣動電磁閥進行控制;2,所有位置控制都由控制器進行操作。1)控制類型-全開:高速閘門全開操作-全閉:高速閘門全閉操作-位置(POS.)控制:將閘門移動到設(shè)定的位置值;2)操作時間-完全打開?完全關(guān)閉:<2秒(取決于速度控制器設(shè)置)-位置(POS。)控制: 0%?100%工作,<MAX18秒(偏差: < ±0.5%)。微泰氣動多位置閘閥,氣動多定位閘閥,多定位插板閥,Pneumatic Multi Position,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。

      半導(dǎo)體真空插板閥是一種用于半導(dǎo)體制造過程中的真空系統(tǒng)的閥門,主要作用是控制氣體的流動,以維持真空環(huán)境的穩(wěn)定。微泰半導(dǎo)體真空腔體用閘閥(插板閥)其特點包括:1. 高密封性:采用特殊的密封結(jié)構(gòu),能夠有效地防止氣體泄漏,保證真空系統(tǒng)的密封性。2. 耐腐蝕性:材料具有良好的耐腐蝕性,能夠在半導(dǎo)體制造過程中的化學(xué)物質(zhì)環(huán)境中穩(wěn)定工作。3. 高精度:能夠精確地控制氣體的流量,滿足半導(dǎo)體制造工藝對精度的要求。4. 快速響應(yīng):可以快速地開啟和關(guān)閉,以適應(yīng)半導(dǎo)體制造過程中的快速氣體控制需求。5. 可靠性高:設(shè)計和制造過程嚴格,保證了其在長期使用中的可靠性和穩(wěn)定性。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁il閥的結(jié)構(gòu)緊湊,閥門剛性好,通道流暢,流阻數(shù)小,密封面采用不銹鋼和硬質(zhì)合金,使用壽命長。

      超真空閘閥L型轉(zhuǎn)移閥,閘閥

      微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨特的三重保護保護環(huán)機能:采用鋁質(zhì)材料,減輕重量的同時提高保護環(huán)內(nèi)部粗糙度,有效防止工程副產(chǎn)物的堆積黏附;通過提升保護環(huán)內(nèi)部流速設(shè)計,且保護環(huán)逐步收窄,進一步提升流速,防止粉塵黏附;采用三元系 O 型圈,確保保護環(huán)驅(qū)動穩(wěn)定,可保證 30 萬次驅(qū)動。該閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,能夠替代 HVA 閘閥、VAT 閘閥。此閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。高壓閘閥結(jié)構(gòu)簡單,制造和維修比較方便。工作行程小,啟閉時間短。密封性好,密封面間磨擦力小,壽命較長。超真空閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

      閘閥啟閉時較省力。是與截止閥相比而言,因為無論是開或閉,閘板運動方向均與介質(zhì)流動方向相垂直。超真空閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

      微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,插板閥,氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥-按產(chǎn)品尺寸和法蘭類型排列-ID為1.5英寸至30英寸,ISO、CF&JIS和ASA法蘭等-現(xiàn)有手動閘閥的鎖定功能(Exist Manual GV of Locking Function)。微泰氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。超真空閘閥L型轉(zhuǎn)移閥

      閘閥產(chǎn)品展示
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