云南激光直寫光刻

對于透明基片的雙面光刻加工，其準(zhǔn)標(biāo)記可靈活設(shè)計(jì)，沿目鏡的光軸上方的圖案區(qū)域如果是不透光的，該區(qū)域的對準(zhǔn)標(biāo)記可以簡單設(shè)計(jì)成透光十字或透光方框作為對準(zhǔn)標(biāo)記。如果目鏡光軸上方掩模板圖案區(qū)域是透光的，該區(qū)域設(shè)計(jì)的對準(zhǔn)標(biāo)記可以設(shè)計(jì)成十字型或方框。不管是十字型還是方框型，都是參照內(nèi)部的邊和角進(jìn)行精確對準(zhǔn)。綜合考慮到物距不一成像大小不同的因素，兩塊掩模板的對準(zhǔn)標(biāo)記也可以設(shè)計(jì)成大小不一的，以掩模板和基片標(biāo)記成像方便觀測對準(zhǔn)為原則。雙面光刻調(diào)制盤作為光路一部分用于約束光束，加工完成后，要用不透明的涂料涂覆標(biāo)記圖案及搜索線即可，即便沒有搜索線，由于小方框?qū)?zhǔn)標(biāo)記是透光的，也不免要用涂料涂覆，涂料對于測量狹縫和機(jī)械裝配公差配合沒有影響。濕法刻蝕較普遍、也是成本較低的刻蝕方法，大部份的濕刻蝕液均是各向同性的。云南激光直寫光刻

高精度的微細(xì)結(jié)構(gòu)可以通過電子束直寫或激光直寫制作，這類光刻技術(shù)，像“寫字”一樣，通過控制聚焦電子束（光束）移動書寫圖案進(jìn)行曝光，具有比較高的曝光精度，但這兩種方法制作效率極低，尤其在大面積制作方面捉襟見肘，目前直寫光刻技術(shù)適用于小面積的微納結(jié)構(gòu)制作。近年來，三維浮雕微納結(jié)構(gòu)的需求越來越大，如閃耀光柵、菲涅爾透鏡、多臺階微光學(xué)元件等。據(jù)悉，某公司新上市的手機(jī)產(chǎn)品中人臉識別模塊就采用了多臺階微光學(xué)元件，以及當(dāng)下如火如荼的無人駕駛技術(shù)中激光雷達(dá)光學(xué)系統(tǒng)也用到了復(fù)雜的微光學(xué)元件。這類精密的微納結(jié)構(gòu)光學(xué)元件需采用灰度光刻技術(shù)進(jìn)行制作。直寫技術(shù)，通過在光束移動過程中進(jìn)行相應(yīng)的曝光能量調(diào)節(jié)，可以實(shí)現(xiàn)良好的灰度光刻能力。浙江氮化鎵材料刻蝕光刻膠根據(jù)其感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)也可以分為光交聯(lián)性、光聚合型、光分解型和化學(xué)放大型。

目前，國內(nèi)光刻膠原材料市場基本被國外廠商壟斷，尤其是樹脂和感光劑高度依賴于進(jìn)口，國產(chǎn)化率很低，由此增加了國內(nèi)光刻膠生產(chǎn)成本以及供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。國內(nèi)企業(yè)基于危機(jī)意識在上游原材料領(lǐng)域已展開相關(guān)布局。從上市公司在光刻膠原材料的布局情況來看，溶劑方面有百川股份、怡達(dá)股份等，單體有華懋科技（投資徐州博康）、聯(lián)瑞新材等，樹脂有彤程新材、圣泉集團(tuán)、強(qiáng)力新材等，光引發(fā)劑有強(qiáng)力新材等。在這之中，徐州博康作為光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈選手，在國內(nèi)光刻膠這條賽道上，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了從單體到樹脂、光酸、配套溶劑到光刻膠產(chǎn)品的全產(chǎn)業(yè)鏈生產(chǎn)能力。

曝光顯影后存留在光刻膠上的圖形（被稱為當(dāng)前層（currentlayer）必須與晶圓襯底上已有的圖形（被稱為參考層（referencelayer））對準(zhǔn)。這樣才能保證器件各部分之間連接正確。對準(zhǔn)誤差太大是導(dǎo)致器件短路和斷路的主要原因之一，它極大地影響器件的良率。在集成電路制造的流程中，有專門的設(shè)備通過測量晶圓上當(dāng)前圖形（光刻膠圖形）與參考圖形（襯底內(nèi)圖形）之間的相對位置來確定套刻的誤差（overlay）。套刻誤差定量地描述了當(dāng)前的圖形相對于參考圖形沿X和Y方向的偏差，以及這種偏差在晶圓表面的分布。與圖形線寬（CD）一樣，套刻誤差也是監(jiān)測光刻工藝好壞的一個(gè)關(guān)鍵指標(biāo)。理想的情況是當(dāng)前層與參考層的圖形正對準(zhǔn)，即套刻誤差是零。為了保證設(shè)計(jì)在上下兩層的電路能可靠連接，當(dāng)前層中的某一點(diǎn)與參考層中的對應(yīng)點(diǎn)之間的對準(zhǔn)偏差必須小于圖形間距的1／3。浸入式光刻技術(shù)明顯提高了分辨率。

光刻工藝就是將光學(xué)掩膜版的圖形轉(zhuǎn)移至光刻膠中。掩膜版按基板材料分為樹脂和玻璃基板，其中玻璃基板又包含石英玻璃，硅硼玻璃，蘇打玻璃等，石英玻璃硬度高，熱膨脹系數(shù)低但價(jià)格較高等主要用于高精度領(lǐng)域；按光學(xué)掩膜版的遮光材料可分為乳膠遮光模和硬質(zhì)遮光膜，硬質(zhì)遮光膜又細(xì)分為鉻，硅，硅化鉬，氧化鐵等。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，鉻-石英版因其性能穩(wěn)定，耐用性，精度高等在該領(lǐng)域被廣泛應(yīng)用。我國的光學(xué)掩膜版制作始于20世紀(jì)60年代，當(dāng)時(shí)基板主要進(jìn)口日本“櫻花”玻璃及美國柯達(dá)玻璃。1978年，我國大連玻璃廠當(dāng)時(shí)實(shí)現(xiàn)制版玻璃的產(chǎn)業(yè)化，成品率10%左右。80年代后期，基板主要采用平拉玻璃。到90年代，浮法玻璃技術(shù)技術(shù)較為成熟，開始使用浮法玻璃作為基板，2005年使用超白浮法玻璃作為基板。2010年以后，光掩模基板石英玻璃開始投產(chǎn)，其質(zhì)量能基本滿足IC產(chǎn)業(yè)光掩模版基板的高精度需求。隨著市場對大直徑硅片的需求，大尺寸玻璃基板也同時(shí)趨向于大型化，對光掩模石英玻璃基板也提出了更高的要求?？棠z顯影完成后，圖形就基本確定，不過還需要使光刻膠的性質(zhì)更為穩(wěn)定。廣東材料刻蝕代工

圖形反轉(zhuǎn)膠的顯影過程。云南激光直寫光刻

厚膠光學(xué)光刻具有工藝相對簡單、與現(xiàn)有IC工藝流程兼容性好、制作成本低等優(yōu)點(diǎn)，是用來制作大深度微光學(xué)、微機(jī)械、微流道結(jié)構(gòu)元件的一種很重要的方法和手段，具有廣闊的應(yīng)用前景，因而是微納加工技術(shù)研究中十分活躍的領(lǐng)域。厚膠光刻是一個(gè)多參量的動態(tài)變化過程，多種非線性畸變因素的存在，使得對其理論和實(shí)驗(yàn)的研究，與薄膠相比要復(fù)雜得多。厚層光刻膠顯影后抗蝕劑浮雕輪廓不僅可以傳遞圖形，而且可以直接作為工作部件、微機(jī)械器件封裝材料等。例如SU—8光刻膠具有良好的力學(xué)特性，可直接作為微齒輪、微活塞等部件的工作材料。隨著厚膠光學(xué)光刻技術(shù)的成熟和完善，該技術(shù)不僅可以制作大深度、大深寬比臺階型微結(jié)構(gòu)元件，而且可以制作大深度連續(xù)面形微結(jié)構(gòu)元件。云南激光直寫光刻