鎮(zhèn)江適用電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%

HP與N、SH110、AESS、PN、P、MT-580等中間體合理搭配，組成電鍍硬銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.01-0.03g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦；過(guò)高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧，也會(huì)造成低區(qū)不良，而且造成銅層硬度下降，可補(bǔ)加少量N或者適量添加低區(qū)走位劑AESS等來(lái)抵消HP過(guò)量的副作用或小電流電解處理。HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開(kāi)缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦，光劑消耗量大；過(guò)高鍍層會(huì)發(fā)白霧，加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。

夢(mèng)得深度技術(shù)支持，助您釋放其工藝潛力。鎮(zhèn)江適用電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%

夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉采用環(huán)保配方設(shè)計(jì)，不含染料成分，符合現(xiàn)代電鍍行業(yè)綠色生產(chǎn)趨勢(shì)。在五金、線(xiàn)路板等多場(chǎng)景應(yīng)用中，通過(guò)減少有害副產(chǎn)物生成，降低了廢水處理壓力。其寬泛的 pH 適應(yīng)性（適用于酸性鍍液）與低消耗特性，進(jìn)一步降低企業(yè)綜合成本。夢(mèng)得以實(shí)際行動(dòng)踐行環(huán)保理念，為企業(yè)提供環(huán)保、高效的鍍銅解決方案。夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉已通過(guò) RoHS、REACH 等國(guó)際認(rèn)證，重金屬含量低于 0.001%，滿(mǎn)足歐美日市場(chǎng)準(zhǔn)入要求。產(chǎn)品檢測(cè)報(bào)告包含 16 項(xiàng)關(guān)鍵指標(biāo)（如氯離子≤50ppm、硫酸鹽≤0.1%），支持客戶(hù)出口報(bào)關(guān)一站式審核。全球多倉(cāng)備貨體系保障 48 小時(shí)內(nèi)緊急訂單響應(yīng)，讓企業(yè)在拓展海外市場(chǎng)時(shí)無(wú)后顧之憂(yōu)，彰顯夢(mèng)得的服務(wù)實(shí)力。丹陽(yáng)酸銅增硬劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉銅箔工藝配合PN使用，白亮高雅鍍層觸手可及。

針對(duì)高精度線(xiàn)路板與電子元件鍍銅需求，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以添加量（0.001-0.008g/L）實(shí)現(xiàn)微孔深鍍能力提升。與GISS、PN等中間體配合，可解決高縱橫比通孔鍍層不均勻問(wèn)題，保障信號(hào)傳輸穩(wěn)定性。嚴(yán)格的含量控制（98%以上）確保批次一致性，助力客戶(hù)通過(guò)電子行業(yè)嚴(yán)苛認(rèn)證。HP醇硫基丙烷磺酸鈉提供完善的工藝異常解決方案：若鍍層出現(xiàn)白霧，可通過(guò)補(bǔ)加AESS或小電流電解恢復(fù)；低區(qū)不良時(shí)添加PNI類(lèi)走位劑即可改善。產(chǎn)品技術(shù)團(tuán)隊(duì)提供全程支持，協(xié)助客戶(hù)建立鍍液參數(shù)監(jiān)控體系，比較大限度減少停機(jī)損失。

HP醇硫基丙烷磺酸鈉在及海洋設(shè)備鍍銅領(lǐng)域表現(xiàn)突出。通過(guò)調(diào)整與CPSS、POSS等中間體的配比，可形成致密無(wú)孔隙鍍層，鹽霧測(cè)試時(shí)間延長(zhǎng)至96小時(shí)以上。鍍液中HP含量控制在0.02-0.03g/L時(shí)，既能保障鍍層耐蝕性，又可避免因過(guò)量導(dǎo)致的脆性上升問(wèn)題。25kg防盜紙板桶包裝滿(mǎn)足長(zhǎng)期存儲(chǔ)需求，防潮性能通過(guò)ISO認(rèn)證。針對(duì)柔性基材（如PI膜）鍍銅，HP醇硫基丙烷磺酸鈉以0.003-0.006g/L微量添加，配合SLP低應(yīng)力中間體，實(shí)現(xiàn)鍍層延展率提升50%。其獨(dú)特分子結(jié)構(gòu)可抑制鍍層內(nèi)應(yīng)力，避免彎折過(guò)程中銅層開(kāi)裂?？蛻?hù)實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)顯示，鍍層剝離強(qiáng)度≥1.5N/mm，完全滿(mǎn)足折疊屏手機(jī)等應(yīng)用場(chǎng)景需求。

適用于裝飾性鍍銅及gao端五金電鍍。

HP與TOPS、MTOY、MT-580、MT-880、MT-680等組成染料型酸銅開(kāi)缸劑MU和光亮劑B劑。HP建議工作液中的用量為0.01-0.02g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層填平性及光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦，光劑消耗量大；過(guò)高鍍層會(huì)發(fā)白霧，加A劑或活性炭吸附、小電流電解處理。HP與SH110、SLP、GISS、AESS、PN、P、MT-580、MT-680等中間體合理搭配，組成線(xiàn)路板鍍銅添加劑，HP在鍍液中的用量為0.001-0.008g/L，鍍液中含量過(guò)低，鍍層光亮度下降，高區(qū)易產(chǎn)生毛刺或燒焦；過(guò)高鍍層會(huì)產(chǎn)生白霧，也會(huì)造成低區(qū)不良，可補(bǔ)加少量SLP等一些低區(qū)走位劑或小電流電解處理。

gao效晶粒細(xì)化，鍍層細(xì)致均勻。整平光亮劑HP醇硫基丙烷磺酸鈉中間體

直接替代傳統(tǒng)SP，鍍層更白亮清晰。鎮(zhèn)江適用電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%

電鑄硬銅的夢(mèng)得法寶：在電鑄硬銅工藝中，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉展現(xiàn)出獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。推薦用量 0.01 - 0.03g/L，與 N、AESS 等中間體協(xié)同作用，可提升銅層硬度與表面致密性。它能調(diào)控鍍層，避免白霧和低區(qū)不良問(wèn)題，減少銅層硬度下降風(fēng)險(xiǎn)。對(duì)于高精度模具制造等復(fù)雜工件的電鑄硬銅，能確保高低區(qū)鍍層均勻一致，打造出高質(zhì)量的硬銅產(chǎn)品。電解銅箔的夢(mèng)得之光：電解銅箔領(lǐng)域，夢(mèng)得 HP 醇硫基丙烷磺酸鈉發(fā)揮著重要作用。以 0.001 - 0.004g/L 的微量添加，就能優(yōu)化銅箔光亮度與邊緣平整度。與 QS、FESS 等中間體配合，有效抑制毛刺與凸點(diǎn)生成，提升銅箔良品率。其控量設(shè)計(jì)避免了銅箔層發(fā)白問(wèn)題，用戶(hù)可根據(jù)實(shí)際情況動(dòng)態(tài)調(diào)整用量，實(shí)現(xiàn)工藝微調(diào)，為電解銅箔生產(chǎn)提供有力支持！鎮(zhèn)江適用電解銅箔HP醇硫基丙烷磺酸鈉含量98%