廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所依托其材料外延與微納加工平臺，在晶圓鍵合技術(shù)研究中持續(xù)探索。針對第三代氮化物半導(dǎo)體材料的特性，科研團(tuán)隊(duì)著重分析不同鍵合溫度對 2-6 英寸晶圓界面結(jié)合強(qiáng)度的影響。通過調(diào)節(jié)壓力參...

電子束曝光技術(shù)通過高能電子束直接轟擊電敏抗蝕劑，基于電子與材料相互作用的非光學(xué)原理引發(fā)分子鏈斷裂或交聯(lián)反應(yīng)。在真空環(huán)境中利用電磁透鏡聚焦束斑至納米級，配合精密掃描控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)亞5納米精度圖案直寫。突破...

太赫茲通信系統(tǒng)依賴電子束曝光實(shí)現(xiàn)電磁波束賦形技術(shù)革新。在硅-液晶聚合物異質(zhì)集成中構(gòu)建三維螺旋諧振單元陣列，通過振幅相位雙調(diào)控優(yōu)化波前分布。特殊設(shè)計(jì)的漸變介電常數(shù)結(jié)構(gòu)突破傳統(tǒng)天線±30°掃描角度限制，實(shí)...

研究所將電子束曝光技術(shù)應(yīng)用于 IGZO 薄膜晶體管的溝道圖形制備中，探索其在新型顯示器件領(lǐng)域的應(yīng)用潛力。IGZO 材料對曝光過程中的電子束損傷較為敏感，科研團(tuán)隊(duì)通過控制曝光劑量與掃描方式，減少電子束與...

科研團(tuán)隊(duì)在晶圓鍵合技術(shù)的低溫化研究方面取得一定進(jìn)展?？紤]到部分半導(dǎo)體材料對高溫的敏感性，團(tuán)隊(duì)探索在較低溫度下實(shí)現(xiàn)有效鍵合的工藝路徑，通過優(yōu)化表面等離子體處理參數(shù)，增強(qiáng)晶圓表面的活性，減少鍵合所需的溫度...

圍繞電子束曝光在半導(dǎo)體激光器腔面結(jié)構(gòu)制備中的應(yīng)用，研究所進(jìn)行了專項(xiàng)攻關(guān)。激光器腔面的平整度與垂直度直接影響其出光效率與壽命，科研團(tuán)隊(duì)通過控制電子束曝光的劑量分布，在腔面區(qū)域制備高精度掩模，再結(jié)合干法刻...

研究所將晶圓鍵合技術(shù)與微納加工工藝相結(jié)合，探索在先進(jìn)半導(dǎo)體器件中的創(chuàng)新應(yīng)用。在微納傳感器的制備研究中，團(tuán)隊(duì)通過晶圓鍵合技術(shù)實(shí)現(xiàn)不同功能層的精確疊加，構(gòu)建復(fù)雜的三維器件結(jié)構(gòu)。利用微納加工平臺的精密光刻與...

5G射頻濾波器晶圓鍵合實(shí)現(xiàn)性能躍升。玻璃-硅陽極鍵合在真空氣腔中形成微機(jī)械諧振結(jié)構(gòu)，Q值提升至[email protected]。離子注入層消除熱應(yīng)力影響，頻率溫度系數(shù)優(yōu)化至0.3ppm/℃。在波束賦形天線陣列中...

晶圓鍵合加速量子計(jì)算硬件落地。石英-超導(dǎo)共面波導(dǎo)鍵合實(shí)現(xiàn)微波精確操控，量子門保真度達(dá)99.99%。離子阱陣列精度<50nm，支持500量子比特并行操控。霍尼韋爾系統(tǒng)實(shí)測量子體積1024，較傳統(tǒng)架構(gòu)提升...

電子束曝光是光罩制造的基石，采用矢量掃描模式在鉻/石英基板上直接繪制微電路圖形。借助多級劑量調(diào)制技術(shù)補(bǔ)償鄰近效應(yīng)，支持光學(xué)鄰近校正（OPC）掩模的復(fù)雜輔助圖形創(chuàng)建。單張掩模加工耗時(shí)20-40小時(shí)，配合...

該研究所將晶圓鍵合技術(shù)與半導(dǎo)體材料回收再利用的需求相結(jié)合，探索其在晶圓減薄與剝離工藝中的應(yīng)用。在實(shí)驗(yàn)中，通過鍵合技術(shù)將待處理晶圓與臨時(shí)襯底結(jié)合，為后續(xù)的減薄過程提供支撐，處理完成后再通過特定工藝實(shí)...

量子點(diǎn)顯示技術(shù)借力電子束曝光突破色彩轉(zhuǎn)換瓶頸。在InGaN藍(lán)光晶圓表面構(gòu)建光學(xué)校準(zhǔn)微腔，精細(xì)調(diào)控量子點(diǎn)受激輻射波長。多層抗蝕劑工藝形成倒金字塔反射結(jié)構(gòu)，使紅綠量子點(diǎn)光轉(zhuǎn)化效率突破95%。色彩一致性控制...